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轉自原作者：東方點兵
我國光刻機一項核心技術已實現重大突破 ， 這一突破 ， 有望在光刻機技術上打破荷蘭的壟斷！
目前國際上只有三家公司能夠生產步進掃描光刻設備 ， 分別是荷蘭的ASML、日本的NIKON 和CANON公司 。
此前《一網荷蘭》曾發文稱 ， 光刻機設備供應商ASML在舉行電話會議時 ， 其總裁Peter Wennink在會議上明確表示：高端的極紫光（EUV）光刻機永遠不可能被中國模仿 ， 況且中國在知識產權領域有良好的規定 。
Wennink也解釋了為何不害怕中國會模仿光刻機 。
光刻機構成程序復雜 ， 制造過程需要巨大的工程量 。 荷蘭ASML是系統的集成商 ， 他們是將百家公司的技術整合在一起 ， 進而組合成一個全新光刻機 。
這種機器有80000多個零件 ， 其中有90%的零件由供應商提供 ， 任何一方都不可能打造全部零件 ， 通常需要各國合力打造 。
Wennink表示 ， 他們光刻機的制造集合了當下世界上最先進的各種前沿技術 。 其中各種反光鏡以及其他光學部件來自于德國的蔡司 ， 光源來自于美國的Cymer；計量設備來自于美國的世德科技；傳送帶來自于荷蘭的VDL ， 而這世界上沒有一個公司能夠模仿他們 。
同時 ， ASML的機器裝有傳感器 ， 一旦檢測到有異常情況發生 ， Veldhoven就會立刻響起警報 。
Wennink其實說的特別直白：像高端的EUV光刻機 ， 想要模仿是不可能的 ， 就算你出高價去買 ， 也不一定買得到 。
現狀下 ， 我國的芯片就面臨著被“卡脖子” ， 此前就出現過荷蘭ASML迫于美國壓力 ， 扣留EUV設備出口到中國許可證的情況 。
但現在 ， 我國的光刻機技術也在逐步實現突破 ， 一步步打破荷蘭的壟斷 。
工作臺是步進掃描投影光刻機的核心子系統 ， 我國現在在工作臺這一技術上已經有了重大突破 。
在清華大學機械工程系教授朱煜牽頭作用下 ， 中國光刻機核心零部件頂級供應商華卓精科公司的光刻機雙工作臺宣布研發成功 ， 此項光刻機雙工作臺技術打破了荷蘭ASML在光刻機雙工作臺技術上的壟斷 ， 意味著華卓精科成為了全球第二家掌握雙工作臺核心技術的公司 。
雙工作臺技術對于光刻機來說到底有多重要？該技術的成功研發 ， 到底代表著什么？
一
光刻機的“心臟”
光刻的原理就是在硅片表面覆蓋一層具有高度光敏感性光刻膠 ， 再用光線（一般是紫外光、深紫外光、極紫外光）通過掩膜照射在硅片表面 ， 被光線照射到的光刻膠會立即發生反應 。
之后用特定溶劑洗去光刻膠 ， 就實現了電路圖從掩膜到硅片的轉移 。
光刻完成后對沒有光刻膠保護的硅片部分進行刻蝕 ， 最后洗去多余的光刻膠 ， 就完成了半導體器件在硅片表面的建構過程 。
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