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黑莓|光刻機最重要的核心技術(shù)被突破？怪不得ASML這么急

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黑莓|光刻機最重要的核心技術(shù)被突破？怪不得ASML這么急

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黑莓|光刻機最重要的核心技術(shù)被突破？怪不得ASML這么急

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一個好消息 ， 國產(chǎn)光刻機又有新的重大突破 ， 一項關(guān)鍵的核心技術(shù)即將被解決 ， 我們距離自己的EUV光刻機又近了一步 。 也怪不得ASML現(xiàn)在越來越著急了 ， 我們所突破的光刻機技術(shù)越來越多 ， 核心技術(shù)也有所進展 ， 雖然目前對ASML的并沒有多大威脅 。


但隨著時間流逝 ， ASML已經(jīng)感覺到越來越沉重的壓力了 。
ASML的著急
前幾年還在說就算給我們圖紙也造不出來光刻機的ASML ， 今年卻一反常態(tài) ， 對我們開始玩起了“傾銷” 。 數(shù)據(jù)顯示 ， 今年第一季度 ， ASML向我們出口光刻機數(shù)量21臺 ， 占到其總銷量的34% ， 我們也首次成為了ASML的最大出貨市場 。
過去 ， ASML向DL出貨的光刻機數(shù)量總共也就50多臺 ， 可以說是相當“摳門” 。 結(jié)果今年光是第一季度就出貨21臺 ， 這是想開了？不 ， 無事獻殷勤 ， 必然是沒安好心 。

ASML向我們出售的都是老舊型號的DUV光刻機 ， 要么是我們能造的 ， 要么是我們很快就能造的那種 。 ASML選擇這個時候出售 ， 其實就是在變相打壓國產(chǎn)光刻機 。
除了向我們大量出售DUV光刻機之外 ， ASML還決定擴大國內(nèi)的研發(fā)中心 ， 計劃增加200名研發(fā)人員 ， 并還要建造維修中心 。 這個投資力度說大不大 ， 但說小也不小 ， 實際上就是想憑借自己的優(yōu)勢把國內(nèi)的光刻機扼殺在搖籃中 。
國產(chǎn)光刻機再突破 ， 這次是透鏡
雖然ASML試圖在國內(nèi)找回自己的地位 ， 但是我們對此并不買單 ， 畢竟上過的當已經(jīng)好幾回了 。 這一次 ， 光刻機自主化勢在必得 ， 國內(nèi)諸多大學(xué)和研究院都在為此而努力 。 并且 ， 我們已經(jīng)取得了很多的突破 ， 相較于過去 ， 國產(chǎn)光刻機早已今非昔比 。

隨著時間流失 ， DUV光刻機對我們而言將不再是挑戰(zhàn) ， 接下了EUV光刻機才是我們攻克的重點 。 EUV光刻機是制造業(yè)的皇冠 ， 集合了西方技術(shù)結(jié)晶 ， 零件達到十萬之多 。 目前 ， 世界上也只有EUV光刻機 。
我們要突破EUV光刻機 ， 其三大核心就繞不過去 ， 分別是光學(xué)系統(tǒng)、光學(xué)鏡頭和雙工作臺系統(tǒng) 。
而這一次我們突破的正是光學(xué)系統(tǒng)的部分 。 來自港城大學(xué)電機工程系的蔡定平教授團隊 ， 在Science Advances發(fā)表了一篇名為《真空紫外非線性超構(gòu)透鏡》的文章 ， 其中所記載的新型超構(gòu)透鏡 ， 是我們突破光刻機又一大技術(shù)門檻的希望所在 。

EUV光刻機的光源是極紫外光 ， 所以其實際上叫做極紫外線光刻機 。 而蔡定平教授團隊研發(fā)的新型真空紫外非線性超構(gòu)透鏡 ， 能夠產(chǎn)生和聚焦極紫外光 ， 并能夠?qū)⒉ㄩL395nm轉(zhuǎn)化為197nm。 聚焦光點的功率密度比超構(gòu)透鏡高了21倍 。
據(jù)悉 ， 這一突破能夠應(yīng)用于EUV光刻機之中 ， 幫助國產(chǎn)光刻機突破技術(shù)瓶頸 。 并且 ， 這一技術(shù)還屬于EUV光刻機的核心技術(shù) ， 對實現(xiàn)EUV光刻機自主有重大意義 。
總結(jié)
【黑莓|光刻機最重要的核心技術(shù)被突破？怪不得ASML這么急】可以發(fā)現(xiàn) ， 雖然EUV光刻機號稱制造業(yè)的皇冠 ， 但其并不是完全不可突破 。 至少 ， 我們已經(jīng)突破了很多技術(shù) ， 其中還包括最核心的那部分 。 “只要功夫深 ， 鐵杵也能磨成針” ， 相信EUV光刻機自主早晚能夠?qū)崿F(xiàn)自主 。

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