光刻機|俄正式對光刻機出手，華為或成受益者之一，外媒：ASML也做不到華為|asml

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一直以來，芯片都是我國科技行業的老大難之一，尤其是在華為無法與臺積電達成合作，生產麒麟芯片以后，關于芯片的難題則更加凸顯了出來。雖然中芯目前有一定的能力制造芯片，但一來沒有EUV光刻機設備，二來用到的也并非是國產化技術，所以并不能幫得上華為。

國產光刻機迫在眉睫，但仍然需要時間盡管目前有消息表示國內相關部門正在研發光刻機設備，但短時間內很難有所突破。不過讓很多人沒有料到的是，另外一件事情的出現，讓光刻機技術“去美化”又一次成為了焦點。

眾所周知，自從2月末開始，俄當地市場就受到了多家企業的停止供貨，其原因我們也都知道。而終止合作的企業就包括三星、臺積電等芯片制造公司。所以在這種情況下，當地的芯片制造問題也成了難題，其中也包括光刻機設備。對此，俄也開始針對光刻機行動了。

俄針對光刻機出手根據消息表示，目前俄相關技術學院已經接下了光刻機的項目計劃，開發全新的光刻機設備。甚至根據相關人員表示，該光刻機雖然不是ASML公司的EUV光刻機，但是卻可以達到EUV光刻機的級別。二者主要的差別在于技術原理，俄準備開發的EUV光刻機設備采用的是X射線技術，并非是光掩模技術就可以生產芯片。

所謂的X射線光刻機就是使用波長介于0.01nm到10nm之間的X射線，甚至比EUV的極紫外光還要短一些，所以其分辨率并不比EUV差，甚至還要更高。除此之外，不需要光掩模的光刻機在成本方面也能夠最大限度降低，這一點也是該類光刻機最大的優勢所在。

對此情況，所以也有外媒表示，目前該技術連ASML都做不到。因為目前從相關資料來說， X射線光刻機在全球范圍內并沒有能夠成功量產的按理，而目前現有的X射線光刻機在實際生產和制造芯片的情況下，效率遠不如ASML的光刻機設備。所以也就遲遲沒有大規模商用。

不過俄在X射線光刻機方面之前就有一定的技術積累，而且無掩模光刻機工藝水平并不是很差，只不過礙于規模化量產問題一直沒有解決。所以如果肯花費大量資金研發嘗試的話，說不定會取得一定的進步和發展。
華為這次又機會了？而如果X射線光刻機未來成功研發，這對華為來說無疑也是一個好消息。畢竟其關系我們都心知肚明，而且最重要的一點是該類光刻機不會用到美企相關的技術，所以華為能夠成為受益者也就成為了順其自然的事情。

總體來說，這對于華為來講是一個不錯的機會，一邊是國內企業研發光刻機設備，另一方面俄也開始對X射線光刻機出手，兩手準備對于芯片“去美化”也是多了一些希望。
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