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我們都知道 ， 在最近20年內 ， 中國的科學技術獲得了突飛猛進地發展 。 20年前中國的基礎科學水平 ， 比歐美國家還有著非常巨大的差距 ， 比如說我們的半導體芯片產業基本上就是零 。 而半導體芯片可以說是未來科技的重中之重 ， 就在最近中科院就在半導體科學技術方面獲得了一個新的重大突破 。
中科院獲得技術突破 ， 中國技術發展不會停止半導體芯片產業一直都是我們科技發展的一個短板 ， 歐美國家目前在半導體技術領域方面基本上擁有著絕對的技術優勢 ， 所以他們對中國卡脖子 ， 限制中國的發展 。
所以我們一直希望可以改變這一局面 ， 而想要建立中國自己的本土半導體產業 ， 首先一點就是要先解決光刻機的問題 。 原先只有荷蘭的公司可以生產世界最高端的光刻機 ， 而荷蘭公司的光刻機要使用來自美國的技術 ， 這也是為什么美國可以在半導體產業方面卡中國脖子的一個重要原因 。
在國家投入了大量資源的情況下 ， 中國的光刻機發展速度非常快 ， 甚至我們已經有了屬于自己本國生產的光刻機 。 雖然在技術水平上還沒有辦法和歐美國家的最先進水平相提并論 ， 但是起碼已經解決了從無到有的問題 ， 但是其實光刻機僅僅只不過是我國半導體芯片產業發展的一個幌子而已 。
而在關鍵時刻 ， 中科院已經獲得了一個新的突破 。 根據媒體報道 ， 中科院最近已經在集成光學量子芯片的基礎上獲得了決定性的突破 ， 這代表著在未來 ， 中國有可能在不使用光刻機的情況下 ， 也能夠生產出最先進的芯片 ， 這甚至可以讓中國的半導體技術領域方面 ， 實現對歐美國家的彎道超車 ， 現在就連美國也覬覦中國的技術 ， 他們還要求中國公開技術 。
中國芯片設計水平很高 ， 但是制造能力不足其實中國的芯片設計水平是很高的 ， 華為公司 ， 中芯國際公司所生產的芯片 ， 從技術角度上不見得落后于歐美國家的頂尖半導體芯片 。 可是我們的缺點 ， 就是半導體產業鏈尚且沒有建設完成 ， 半導體芯片的制造生產能力有所不足 。
而我們的集成光學量子芯片技術獲得突破 ， 就代表著我們將來不需要再購買光刻機了 ， 我們只需要生產由中國設計制造的集成光學量子芯片的儀器就可以了 。
這代表著我們已經基本打破了歐美國家在芯片制造方面的壟斷 ， 中國的未來發展是不可阻擋的 。 也希望集成光學量子芯片生產技術 ， 可以迅速轉化落地 。
【光刻機|光刻機不是目的？中科院取得重大突破，美國竟想讓我們公開技術】部分消息參考：上海熱線國際
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