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光刻機|國產光刻機被中企拒之門外，ASML大獲全勝，意味著什么？( 二 )

芯片光刻機半導體阿斯麥爾


這次招標 ， 暴露出了國產光刻機和阿斯麥爾光刻機之間的差距 ， 意味著國產光刻機的發展依舊是任重而道遠 ， 不僅僅是DUV ， EUV ， 還有那些已經實現國產化的后道光刻機方面 。 正所謂居安思危 ， 我們在進步 ， 但是也并不代表阿斯麥爾就在那邊原地踏步 ， 那么 ， 未來 ， 阿斯麥爾還將可能會給我國光刻機的發展帶來哪些不友好的信號呢？

阿斯麥爾還將帶給國產光刻機發展哪些不好的信號2022年5月17日 ， 阿斯麥爾當天在自己的公眾號中發表了一篇名為《創新 ， 讓摩爾定律煥發光彩》的文章 。 在這篇文章中 ， 雖然目前面臨摩爾定律的極限 ， 但是 ， 阿斯麥爾自信 ， 憑借著現有技術 ， 完全有能力實現1納米工藝制程芯片生產設備的落地 ， 摩爾定律可以繼續生效十年甚至更長的時間 。
這不是說大話 ， 目前阿斯麥爾還是有不少技術創新的 ， 比如 gate-all-around FETs、nanosheet FETs等等前瞻技術 。 此外 ， 阿斯麥爾在光刻系統分辨率和邊緣放置誤差對精度的衡量 ， 據說都可以推動芯片尺寸進一步縮小 。

看樣子 ， 阿斯麥爾的實力不僅強勁而且還在不斷進步 ， 因為 ， 未必不能給國產光刻機的發展帶來難題 。
另外 ， 根據路透社5月20日報道 ， 阿斯麥爾正在研發一款半導體新型光刻機 ， 價值高達4億美元 ， 大小方面就和我們常見的雙層巴士差不多 ， 重量超過了200噸 ， 將用于生產下一代芯片 ， 芯片的應用范圍可以覆蓋手機、汽車、AI等等 ， 這臺新型的 ， 更加先進的光刻機有希望在2023年 ， 也就是明年亮相市場 。

這樣一來 ， 在阿斯麥爾自身光刻機設備生產實力不斷增強的情況下 ， 又如何不會是國產光刻機發展的難題呢？
總結【光刻機|國產光刻機被中企拒之門外，ASML大獲全勝，意味著什么？】國產光刻機無緣上海積塔半導體光刻機設備招標 ， 反而讓阿斯麥爾直接包圓 。 這意味著我國和阿斯麥爾之間依舊還存在著相當一定程度上的差距 。 未來 ， 國產光刻機的發展依舊是任重而道遠 。

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