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這個哥們是日本光刻膠公司的高管 ， 他說：中國很難掌握基于EUV光刻的復雜芯片制造技術 。
EUV光刻機是難 ， 但終歸是人造的 。
中國人向來勇于挑戰不可能 ， 并且歷史經常證明 ， 中國突破封鎖的時間往往不會太長 。
建議他先別擔心中國光刻機了 ， 還是考慮下未來 ， 中國高端光刻膠可能會成為你的有力競爭對手吧 。
網友：還需要EUV嗎？國產DUV明年量產之后 ， 也許2024年就可以量產7nm光刻機了 。 屆時再利用華為的芯片疊層技術 ， 就解決了3.5nm～5nm的芯片制程了 。 1億歐元的DUV ， 見鬼去吧 。
網友：我是從基本技術層面考慮的 ， 現在物理化學人才斷檔 。 加上教育教材老師等不靠譜 ， 基本物理和化學很難更新換代 ， 這就是光刻機很難突破的真實原因 。 卡脖子的是人才和教育！
【芯片|日本光刻膠公司高管：我國很難掌握基于EUV光刻的復雜芯片制造技術】網友：只要有市場 ， 初始技術可以是所謂落后一兩代的 ， 但要切實可用的 ， 隨著需求的發展 ， 經驗的積累 ， 資金持續投入 ， 技術是可快速迭代的 。 關鍵是要突破從0到1的質變 。
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