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光刻機最先進的廠商是ASML ， 因為ASML有兩大法寶 ， 分別是DUV光刻機EUV光刻機 ， 尤其是EUV光刻機 ， 其是生產制造7nm以芯片的最優解 。
所以國內廠商早就著手開始研發、購買先進的光刻機 ， 但由于芯片等規則影響 ， ASML先進的EUV光刻機無法出口到國內 ， 國內廠商下單4年都沒有到貨 。
隨后 ， 芯片等規則被再次被修改 ， 臺積電、高通等芯片企業不能再自由出貨 ， 導致華為自研芯片的生產制造受到了影響 。
于是 ， 國內廠商更加將光刻機技術的研發工作 ， 目的就是盡管掌握先進光刻機的生產制造技術 。
例如 ， 華為任正非帶隊走訪了中科院 ， 隨后光刻機相關技術被列入優先突破的難題；任正非還走訪了國內多所高校 ， 目的就是留住更多芯片等方面的人才 。
還有就是 ， 華為旗下的哈勃投資也多次投資國內芯片相關的產業鏈 ， 像光源技術等 。
面對廠商如火如荼投入到先進光刻機的研發當中 ， 于是 ， ASML方面就明確表示 ， 給中國廠商圖紙也造不出來先進的光刻機 。
ASML之所以如此表態 ， 是因為先進光刻機集合全球40多個國家的原材料和技術 ， 像美國的光源技術、德國的鏡頭技術、英國的真空技術 ， 等等 。
行動開始了 ， 國產光刻機的新消息傳來
雖然先進光刻機的研發制造難度大 ， 但這依舊擋不住國內廠商前進的步伐 。 如今 ， 國產光刻機的新消息傳來 ， 可以說是行動開始了 。
最新的消息稱 ， 國望光學光刻機曝光系統生產基地項目正式公布了 ， 該項目將由北京國望光學科技有限公司和長春國科精密聯合建設經營 。
要知道 ， 這兩家都是國內數一數二的超精密光學產業的研發制造企業 。
這兩家企業聯合打造國望光學光刻機曝光系統生產基地項目 ， 這意味在國產IC制造投影光刻機曝光光學系統、高端精密光學儀器與裝備的批量生產供貨能力正式形成 。
【光刻機|行動開始，國產光刻機的新消息傳來！外媒：ASML錯了】再簡單一點說就是 ， 光刻機最主要的技術是光源技術和光學儀器 ， 而該基地的建設 ， 就意味著國產先進光刻機的到來更近了 。
對此 ， 就有外媒表示ASML錯了 ， 因為國內廠商在光刻機技術方面正在逐漸突破 ， 畢竟 ， 盾構機、蝕刻機等先進設備已被國內廠商突破 。
ASML說給國內廠商圖紙 ， 國內廠商也無法研發制造出來先進的光刻機 ， 這是錯誤的說法 。
另外 ， 停止向國內廠商出口先進的光刻機等設備 ， 是ASML另一個錯誤 。
因為停止向國口出貨先進的光刻機設備 ， 不會阻撓國內芯片產業發發展 ， 反而 ， 卻會加速國內廠商在先進光刻機方面實現突破 。
要知道 ， 國產光刻機設備已經占領了國內八成市場 ， 國產封裝光刻機占領了全球四成市場 ， 而國產光刻機曝光系統正式籌備建設 ， 更是證明了國內廠商已經實現了突破 。
也就是說 ， 不久的將來 ， 國產先進光刻機下線后 ， ASML在國內以及國際市場都會被國產光刻機所擠壓 。
其實 ， ASML的做法是錯的這一點 ， ASML總裁之前也相當于承認 。
因為ASML總裁表示 ， 限制ASML等向國內廠商出貨 ， 只會加速國內廠商進行突破 ， 未來15年后 ， ASML或退出中國市場 。
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