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美日荷達成芯片出口管制新協議，中國怎么辦

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美日荷達成芯片出口管制新協議，中國怎么辦

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美日荷達成芯片出口管制新協議，中國怎么辦

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出品|虎嗅科技組
作者|陳伊凡
頭圖|視覺中國
美國在出口管制上又有新的舉措 。
【美日荷達成芯片出口管制新協議，中國怎么辦】根據彭博社、紐約時報等媒體報道，1月28日 ， 美國、荷蘭和日本就限制向中國出口先進芯片制造設備達成協議，其中將會涉及ASML、尼康、東京電子等企業的設備產品 ?；⑿嵯虬雽w業內人士、從事出口管制方面的律師求證，證實了該消息 。迄今為止，美國、日本和荷蘭政府尚未對具體細節進行公布 。
1月30日 ， 在光刻機巨頭阿斯麥（NASDAQ:ASML）向虎嗅提供的一份官方聲明中確認 ， 幾國政府間就達成一項側重于先進制程芯片制造技術的協議有了最新進展，其中將包括但不限于先進制程的光刻系統 。
ASML的聲明中提及 ， 在這項協議生效之前，必須詳細說明并落實到立法中 ， 這需要時間 。其在中國的業務以成熟制程為主 。目前，尚無法就細節以及新的出口管制規則對中期和長期財務、組織和全球行業的影響發表任何聲明 。基于政府官員的聲明、立法進程時間表、不同條款的生效日期，加之目前的市場形勢，ASML預計這些措施不會對其發布的2023年預期產生實質性影響 。
在這項新的協議中，最大的變化莫過于，對華的出口管制，從原來的EUV光刻機擴展到浸潤式光刻機（DUV） 。
這項新的協議將會對中國半導體產生什么影響？又該如何應對？
可能發生的新變化
ASML的光刻機有四大類，一種是EUV，也就是極紫外光刻機 ， 用于生產7nm制程及以下的芯片；第二類是用于生產制程在7nm及以下制程的最新型浸潤式光刻機；第三種是用于生產制程在40nm／28nm／14nm／7nm的浸潤式光刻機；第四種就是生產55nm及以上制程的干式光刻機 。
業界證實，目前對于第一類和第二類的光刻機大概率會被禁運，成熟制程的芯片生產不會受到影響 。
目前，除了ASML，日本尼康也能夠量產用于生產7nm及以下制程的浸潤式光刻機 。
一位半導體研發專家表示，如果浸潤式光刻機禁運，那么對于已有機臺也會受到影響，主要的影響集中在光源以及關鍵零件的更換上，最新型號的浸潤式光刻機能夠提供更大制程的寬度以及提升良率 。
美國的供應鏈話語權
多位業內人士都表達了一個觀點，如今已很難用正常的商業手段去看待美國的出口管制，而已經是大國博弈的視角 。這一點，從這一次美國是直接與日本和荷蘭政府談判 ， 而不是與企業談判就可見一斑 。
一直以來，美國通過技術、市場和金融控制的方式獲得在供應鏈中的話語權，這也使得諸多半導體企業不得不順應美國的要求 。如果細究ASML公司的股權結構可以發現，有50%的股權資本控制來自美國 。而拆解ASML光刻機后也會發現，其中的大部分關鍵零部件來自美國的供應商 。根據李巍、李玙譯一篇刊登于《外交評論》的文章，《解析美國的半導體產業霸權：產業權力的政治經濟學分析》中提及在阿斯邁的EUV光刻機中，有55%使用了美國的零部件 。
而在技術上，美國也掌握了半導體技術鏈的主要環節 。其在芯片制造設備、電子設計自動化（EDA）以及知識產權核（IP）等方面占據了絕對的優勢地位 。這使得整個半導體供應鏈無法繞過美國順利運轉 。

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