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也許你在用的電腦 ， 所用芯片的工藝還是14納米 ， 但是現在的芯片制造工藝 ， 已經推進到了3納米 。
而且 ， 芯片工藝的推進速度 ， 還沒有看到減慢的跡象 ， 例如臺積電近日就宣布 ， 其3納米研發團隊 ， 開始向1.4納米進發 。
制造工藝這么先進的芯片 ， 離不開精良的設備 ， 也就是EUV光刻機 ， 正如大家所了解的 ， 我們還無法進口這款設備 。
因此即使是5納米芯片 ， 大陸中企晶圓廠也無法進行實驗性的量產 。
很顯然 ， 如果要打破這樣的局面 ， 基本就是兩個辦法 。
第一個 ， 寄希望ASML可以獲得授權 ， 開放向我們供貨 ， 但是這個選擇就顯得太被動了 ， 如果遲遲不開放 ， 那豈不是我們永遠都無法制造先進工藝的芯片了 。
所以第二種辦法更靠譜一些 ， 也就是自主研發 。
相信有的朋友還記得 ， 在2020年的時候 ， 中科院院長白崇禮曾經表示 ， 將會解決一批卡脖子的問題 ， 其中光刻機就赫然在列 ， 當然 ， 這里指的就是EUV光刻機 。
當時不禁有網友表示 ， ASML研發EUV相關的技術有二十多年歷史 ， 我們則剛宣布要解決這個問題 ， 是不是有點不太現實了 。
那么真的如此嗎？其實不然 。
實際上 ， 中科院早就開始了在EUV方面的技術研發 ， 而ASML方面其實也傳出消息 ， EUV光刻機的“大門”正在向中企打開了 ， 結局已經基本清晰了 。
可能很多朋友不知道 ， 在某個科技領域要計劃實現突破 ， 甚至國產替代 ， 不是馬上組織實施 ， 給資金、給團隊、給資源等就可以解決的 ， 這需要很多的積累 ， 其中非常重要的就是專利積累 。
這是因為 ， 如果你沒有申請到足夠的專利 ， 那么在以后的設備研發上 ， 很可能你就會侵權 。
ASML在光刻機領域已經很強大了吧 ， 但是ASML依然需要在專利方面深耕 ， 例如在2019年 ， ASML就向尼康支付了1.5億歐元的專利訴訟和解費用 。
在更早的2007年 ， ASML還與佳能進行了專利方面的交叉授權 。
因此如果沒有一定的專利積累 ， 將會很難在這個領域立足 。
而我們發現 ， 中科院早在2002年就開始研發EUV方面的技術 ， 并且已經申請了專利 。
可以看到 ， 在2002年6月24日 ， 中科院光電院就申請了一項“自適應全反射極紫外投影光刻物鏡”的專利 。
在專利的摘要解析當中明確指出 ， 該專利技術用于EUV光刻機當中 。
但中科院的努力可不止這些 ， 除了上面我們談到的中科院光電院 ， 還有中科院長光所、上光所、微電子所和高能物理研究所等 。
其中已經申請的EUV專利上百項 ， 就在今年的三月份 ， 則剛剛公開了一項新的EUV專利 ， 申請方為中科院上光所 。
由此可見 ， 在白院長2020年宣布要解決卡脖子的EUV光刻機時 ， 其實中科院方面早就努力了至少18年的時間 。
很顯然 ， 多年的專利積累 ， 已經為我們實現EUV光刻機走向量產 ， 做好了一條護城河 。
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