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芯片|日企突破新技術，不用EUV光刻機，也能造成高端芯片？( 二 )


對于我國國產芯片的影響
日本這項性技術一旦研發成功 ， 可能很多人會覺得是一件好事 ， 會促進國產芯片的崛起 。 其實未必 ， 日本新技術如果一旦成功 ， 對于我國反而可能會很不利 。
首先 ， 日本新技術將會帶動日本半導體行業的巨大發展 。 這將會使得我國在國際社會上又多了一個強勁的對手 。 畢竟日本的這項技術可以算是日本的核心技術 ， 根本不可能分享給我國促進我國國產芯片崛起 。
反而 ， 隨著日本新技術的成熟 ， 可能最終會成為我國半導體行業最大的威脅 。
當然 ， 這是根據目前短期來說的 ， 如果長期的話就不一定了 。 日本鎧俠公司表示2025年實現量產 。 而到時候我國有可能就不需要這樣的技術了 。 因為根據阿斯麥爾公司CEO溫彼得表示 ， 我國將會在五年內攻克芯片產業鏈上所有技術困局 。
因此 ， 如果從這方面來看 ， 日本這項技術對于國產芯片發展的影響 ， 其實也不是這么大 。
總結
日本鎧俠 ， 用四年的時光研究出擺脫EUV光刻機的新技術 ， 試圖在2025年實現高端芯片的量產 。 這對于以高端光刻機為生的阿斯麥爾而言 ， 可以說是一個壞消息了 。
【芯片|日企突破新技術，不用EUV光刻機，也能造成高端芯片？】當然 ， 目前日本鎧俠已經成功做出了不用光刻機的15納米芯片 。 至于五年后 ， 日本鎧俠能否如今實現高端芯片量產的計劃 。 我們也只有拭目以待了 。

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