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顯卡|從“造不如買”到集中力量攻堅，中國離7nm光刻機還有多遠？( 二 )

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同年 ， 中國的清華大學團隊和華卓精科成功研發了光刻機雙工作臺系統樣機 ， 至此中國光刻機技術水平達到除ASML外的“外國”同步水平 。
然而就在2019年 ， 美國突然宣布對華為實施制裁 ， 并且將制裁范圍從芯片擴展至其他更多的領域 ， 光刻機對華銷售也在其中 。 而此時的中國 ， 小于5nm的芯片晶圓只能依靠ASML的EVU光刻機生產 ， 迫于美國的壓力 ， 荷蘭只能妥協 ， 中國因此迎來光刻機發展的第三次“卡脖” 。

雖然迫于美國的壓力 ， 荷蘭無法向中國出售先進制程的光刻機 ， 但龐大的中國市場 ， 讓ASML無法拒絕其誘惑力 ， 數據統計顯示 ， 在2022年第一季度 ， ASML共交付62臺光刻機 ， 其中21臺DUV都成功銷往中國 。
【“求人”不如“求己”】
回顧中國的半導體行業 ， 光刻機的技術發展歷程可謂是曲曲折折 ， 但這也無時無刻在警醒著中國 ， 不能長期靠“外來力量” ， 究其根本還是要靠自己 。

注：圖片來自儀器信息網
然而自主研發光刻機并非想象中那么簡單 。 據數據顯示 ， 制造一臺光刻機的精密零件需求為數萬顆 ， 而世界目前最先進的極紫外EVU光刻機則需要零件多達十多萬 。
如此多的數目以及極其精密的數據要求 ， 就成為了光刻機最根本的需求基礎 ， 因此傳統的制造基礎便成為了光刻機技術突破的基礎產業要求之一 。
其次 ， 就算擁有了精密的零件制造業基礎 ， 在光學系統、組裝技術等知識、技術等方面也是如今光刻機技術突破的一大難題 ， 因為這一系列的技術知識關乎著一個光刻機能否正常運行以及生產和產出 。
雖然中國隨著近代發展 ， 新興產業在大量擴展 ， 但是基層技術知識與創新理念卻并未進行細耕 ， 也就導致中國的光刻機技術出現一定的差距 ， 這也就成為了目前中國光刻機技術想要進一步突破的關鍵 。
現如今中國無論從技術還是政策 ， 全方面支持鼓勵科研發展 ， 無論從基礎還是理念知識 ， 一系列的相關產業鏈正在逐步完善 ， 總之 ， 中國的光刻機技術能否取得進一步突破的問題 ， 相信時間會給出答案 。
【參考資料】
1.《為了國家需要多次“轉行” ， 他造出我國第一臺光刻機！》科技日報
2.《為什么半導體行業值得投資？》嘉實基金
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