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今天跟大家聊一聊：俄傳來了好消息 ， ASML情況不妙了 ， 華為將成為受益者！
芯片從研發設計、制造生產、到最終的封裝測試 ， 每一個步驟都是頂尖科技的成果 ， 復雜、多樣的工序 ， 也讓芯片的價值持續走高 ， 但畢竟能夠掌握尖端技術的企業在少數 ， 而這些企業分布在不同的國家 ， 這也給國內對于芯片的國產化 ， 增添了很大的難度 。
在相關限制之下 ， 臺積電、高通、三星等等芯片廠商 ， 在出貨自由度上受限 ， 全球半導體行業也迎來了全新的“洗牌” ， 而作為唯一有能力生產光刻機的ASML公司 ， 雖然多次表態愿意提供光刻機給我們 ， 但奈何始終無法獲取授權 ， 這也導致我們在芯片制造上 ， 遭遇了很大的困境 。
進入到3月份 ， 在特殊形勢的影響下 ， 這些國際芯片企業又開始了“一條心” ， 臺積電、三星、蘋果、谷歌、高通等等企業 ， 直接中斷了和俄市場的合作 ， 俄市場在科技方面本身就以以來依賴為主 ， 這一舉動直接影響到了民眾和企業的生存問題 ， 好在目前反制措施已經開啟了 。
而俄市場在芯片領域同樣缺乏相應的技術 ， 甚至于相比我們還要更糟糕 ， 目前能夠實現的自主化工藝僅為65nm ， 原因就在于ASML的光刻機上 ， 從始至終沒有向他們出口過一臺 ， 就算是DUV光刻機也沒有！
俄市場傳來好消息面對美企在科技層面的中斷合作 ， 俄市場自然不會坐以待斃 ， 目前已經積極布局一切可能的應對措施 ， 在新消息傳出之后 ， 目標直指ASML公司 ， 這次的情況不妙了 。
根據外媒傳來的消息 ， 目前俄技術學院已經接下了研發光刻機的任務 ， 后續還將參與攻克更多先進芯片制造設備！
通過對傳來的消息進行分析 ， 可以得知他們參與的光刻機研發 ， 還是有別于ASML的EUV光刻機的 ， 但在技術的先進程度上倒也不分伯仲 ， 以X射線技術作為光源技術基礎 ， 很好的避開了歐美技術的限制 。
而這X射線的波長 ， 比EUV光刻機所使用的極紫外光還要短 ， 是一個非常理想的光刻技術 ， 其波長只要介于0.01nm到10nm之間 ， 如果被用于光刻機的制造的話 ， 很有可能效果會比極紫外光更優異 ， 雖然俄在高科技領域有點乏力 ， 但在基礎科學和材料方面還是全球頂尖的存在 。
在這樣的消息傳出之后 ， ASML的壓力無限增大 ， 此前日企就宣布參與光刻機的研發 ， 要知道最早的光刻機就是日本研發的 ， 后面之所以沒落了 ， 也是因為相關限制導致的 ， 如今一旦恢復相應的技術研發 ， 取得相應的成績還是很簡單的 ， 如今俄技術學院也開始參與進來 ， 這對于他們來說可不是一件好事 。
華為或將成為受益者如果俄研究所真的利用X射線 ， 避開了含美技術 ， 實現了對于光刻機的生產制造 ， 毫無疑問最大的受益者將是中國市場 ， 畢竟兩個國家有良好的市場合作基礎 ， 至少能夠保證類似的限制不會發生 ， 和華為的困境也將被很好的解除 。
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