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三星|三星3nm傳來新進展,效率提升45%,能挽回高通嗎?

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芯片的發(fā)展越來越迅速 , 先進制程芯片量產的速度也是越來越快 , 從28納米 , 就這么幾年的時間 , 如今已經成功挺進到4納米 。 這意味著什么?意味著芯片先進制程已經即將就要接觸到摩爾定律的極限了 。

當然 , 如今全球企業(yè)在芯片先進制程上依舊還在不斷努力中 , 三星 , 這個國際性的全能企業(yè) , 在3納米芯片方面也傳來了新進展 , 據說三星準備在3納米方面采用新工藝 。 那么 , 這次三星是否真能實現(xiàn)3納米的量產嗎?畢竟三星叫嚷3納米也已經有很多年了 , 但是連影子都沒見到 。
三星如今研發(fā)出這樣一個更加先進的3納米制程工藝 , 那么究竟有沒有希望能挽回有點要跑掉的高通呢?

三星3納米傳來新進展根據韓國媒體報道 , 三星今年準備在韓國平澤市開工建設3納米晶圓廠 , 目前預計可能會在6月份還7月份動工 , 并且還準備一并將相應的設備落實到位 。 在3納米芯片的制程工藝上 , 三星大有破釜沉舟的樣子 。
我國的臺積電也確實有向3納米芯片進軍 , 但是 , 目前臺積電使用的可是比較傳統(tǒng)的FinFET工藝 。 而三星偏不 , 三星這次準備用什么呢?準備使用新工藝 , 準備成為第一個吃螃蟹的人 。 這個新工藝就是GAA晶體管工藝 。

這種新工藝主要就是利用新型的環(huán)繞柵極晶體管 , 通過相關納米片設備和相關技術進行相關的堆疊 , 形成多橋通道場效應管 。
當然 , 三星會有這樣的舉動也并不奇怪 , 畢竟就按照理論上來說 , 使用這種全新的GAA晶體管工藝生產出來的芯片也確實會比傳統(tǒng)用FinFET工藝 , 在整體性能上會有很大的增強 , 具體來說 。

使用GAA新工藝生產出來的芯片 , 功耗據說大約能降低50% , 性能可以提高35% , 至少還是從理論上來說 , 因為目前還沒有人試過 , 三星用這種新工藝生產的芯片 , 確實會優(yōu)于臺積電的傳統(tǒng)功能工藝 。
但是 , 三星的3納米新工藝芯片要想實現(xiàn)超越臺積電傳統(tǒng)工藝的3納米芯片 , 那么 , 首先就要一個大變數(shù) 。 那就是三星在3納米芯片方面已經喊了幾年了 , 但是目前也僅僅看見三星動動嘴皮子 , 那么 , 這次三星傳出準備采用新工藝 , 準備建廠 , 這次真有希望能實現(xiàn)3納米芯片的量產嗎?

三星這次真能實現(xiàn)3納米的量產嗎?首先 , 三星在芯片業(yè)務發(fā)展的經濟大投入
其實 , 三星這次還是很有希望能實現(xiàn)自身這種使用更先進新技術 , 3納米芯片的量產的 。 在2020年11月9日 , 三星就定下了在2022年 , 也就是今年實現(xiàn)3納米芯片量產的遠大目標 , 當時 , 根據相關三星高管透露 , 三星不僅僅定下了目標 , 甚至還制定了行動計劃 , 預計想要投入1160億美元發(fā)展芯片 。
這樣的資金投入無疑也是非常巨大的 , 在這樣巨大的資金投入下 , 加上如今在3納米芯片方面 , 三星已經研究了整整差不多有兩年的時間了 , 在時間也不短 , 投入也不少的情況下 , 想要在今年實現(xiàn)3納米芯片的量產 , 其實也不是不可能 。

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